Kombinierte Schichtdickenmessung auf Eisen- und Nichteisenmetallen mittels Hallsensortechnik. Es werden Messungen z.B. im Rahmen der Produktionskontrolle und Qualitätssicherung durchgeführt von nichtmagnetischen Schichten wie Lacken, Kunststoffen, Chrom, Kupfer, Zink, Emaille usw. auf Stahl und Eisen und allen
isolierenden Schichten wie Lacken, Kunststoffen, Emaille, Papier, Glas, Gummi etc. auf Kupfer, Aluminium, Messing und Edelstahl sowie Eloxal auf Aluminium. Anschliessend erfolgt die statistische Auswertung der Messergebnisse. Vor jeder Messserie werden für die Kalibrierung Folien mit Kalibrierzertifikat verwendet. Messbereich : 0 - 3,5 mm Auflösung: 0,1µm im Bereich: 0,0 µm - 99,9 µm 1 µm im Bereich: 100 - 999,0 µm 10 µm im Bereich: 1,0 - 3,5 mm
Kleinste Messfläche: 10 x 10 mm Die Messungen werden mit einem Gerät durchgeführt, dass den Normen DIN 50981, DIN 50984, ISO 2178, 2360, 2808, BS 5411(3,11) 3900(c,5) und ASTM B499, DI 400 entspricht. Schichtdickenmessung auf Eisen- und Nichteisenmetallen: magnetinduktives Messverfahren (F-Modus) , Wirbelstromprüfung (N-Modus). Messbereich : 0 - 1250 µm. Auflösung: 0,1µm < 100µm , 1µm > 100µm;
Messunsicherheit: Standard: 3% des Messwertes-; Meßfläche 5mm (Gerät erfüllt die ISO-Norm 2178 und ISO 2360 sowie die DIN-Norm, ASTM und BS.) Schichtdicken- / Materialdickenmessung mittels Ultraschall
Messbereich: 1,0 mm - 200 mm; Genauigkeit: +- 0,5% +- 0,1; Auflösung: 0,1mm Es können Messungen von vielen Materialien vorgenommen werden wie z.B. Stahl, Gußeisen, Aluminium, Kupfer, Gold, Silber, Zink, Messing, Quarzglas, PP, PE, PVC usw..
Schichtdickenmessung mittels Profilometrie (Tastschnittverfahren) oder optischer Profilometrie Mit dem kufenlosen Messen des Tastschnittverfahrens können ultrafeine Stufen
wie z.B. Beschichtungen gemessen werden.. Mittels optischer Profilometrie durch gewichtete Kombination von lichtmikroskopischen 2D-Schichtaufnahmen (Tiefenschärfekorrektur) lassen sich ebenfalls Stufenkanten bzw. Schichtdicken messen. Schichtdickenmessung mittels Spektroskopie Diese Untersuchungsmethode ist ebenfalls zerstörungsfrei, erfordert aber durchsichtige Schichten des Untersuchungsmaterials. Theoretische Grundlage: Ein Interferenzspektrum wird erzeugt, wenn Licht von beiden Seiten eines durchsichtigen dünnen Films auf einer spiegelnden
Oberfläche reflektiert wird. Dieses Spektrum sieht generell wie eine Sinus-Welle mit einer Frequenz aus, die mit der Wellenlänge abnimmt. Die Schichtdicke bestimmt die Frequenz der Sinus-Welle bei einer gegebenen Wellenlänge, wobei eine größere Schichtdicke eine höhere Frequenz ergibt. Man kann also die Schichtdicke bestimmen, indem man entweder die Frequenz von diesen Sinuswellen direkt vom gemessenen Spektrum bestimmt, oder indem man ein theoretisches Spektrum
für eine Reihe verschiedener Schichtdickenwerte berechnet, und diese Spektren an die gemessenen anpasst. Der beste Fit ergibt dann die Schichtdicke. Interferometrie Mit einem Auflicht-Interferometer steht ein hochempfindliches
Messmikroskop, dessen Eichnormal die Lichtwellenlänge ist, zur Verfügung. Gemessen werden: Niveauunterschiede, Schichtdicken, Materialdicken im mikroskopischen Bereich bis zur höchsten Vergrößerung in einem Messbereich von 3nm bis 30µm. Zerstörende Schichtdickenmessung |
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